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　　一、栽培槽與栽培基質(zhì)處理方法

　　(一)栽培槽

　　1．簡易栽培槽用磚砌成，長度按溫室的具體情況而定，一般不超過20米。槽內(nèi)寬90厘米，高18厘米；槽間過道90厘米。槽底鋪一層0．1毫米厚的聚乙烯薄膜與地面土壤隔離。

　　2．水培槽的利用在無土栽培技術(shù)中，水培要求的技術(shù)較高，尤其是肥料的管理技術(shù)難度較大。因此，可直接利用水培的栽培槽進行有機基質(zhì)栽培，只需把基質(zhì)填人栽培槽，并鋪上滴灌帶即可。

　　(二)栽培基質(zhì)栽培基質(zhì)配方為椰糠與河沙，按體積比1：1混合，河沙粒徑0．2厘米、0.4厘米為好?；|(zhì)混合時，每立方米加入12千克雞糞商品有機肥(含有機質(zhì)20％，全氮3．8％，全磷3．5％，全鉀7．2％)，混勻后填于栽培槽中。

　　(三)供水系統(tǒng)每個栽培槽內(nèi)平行鋪上2條滴灌帶，滴灌帶直徑為15毫米，出水口間隔50厘米。每個溫室安裝獨立的供水系統(tǒng)、加壓水泵，使每條滴灌帶出水口出水均勻，并安裝過濾裝置，以防止出水口堵塞。

　　二、栽培技術(shù)

　　1．品質(zhì)選擇應選外觀漂亮，有特色、口感好、糖分含量高和生育期短的小果型品種，如金美人、黑美入等。

　　2．播種育苗可根據(jù)栽培目的、氣候條件等而定，一般春季1月～3月播種，秋季9月播種。播種前用熱水燙種、浸種和催芽。育苗基質(zhì)配方與栽培基質(zhì)相同，但肥料用量為每立方米8千克。把基質(zhì)裝于育苗盤淋水后即可播種。普通育苗盤播種間距為10厘米x10厘米。如選用穴盤育苗，應選直徑為6厘米一8厘米的穴盤。

　　3．栽培管理當幼苗3片～4片真葉時定植，定植前將基質(zhì)澆透水，每槽植2行，槽內(nèi)行距70厘米，株距50厘米。每株定植的位置要靠近滴灌帶出水口的位置，定植過程要避免傷根。定植后7天應進行追肥，每立方米加尿素和復合肥各0．1千克。定植后20天，每立方米加4千克花生麩(含全氮6．32％，全磷1．17％，全鉀1．34％)。這樣有機肥料可基本滿足西瓜整個生育期的需要，以后可根據(jù)生長情況少量追施速效肥。另外，由于商品有機肥與花生麩均含有鈣、鎂、鐵、錳、銅、鋅、鉬、硼等元素，因此不必補充上述元素的肥料。果實雞蛋大時應追肥1次，每立方米追施0．1％尿素和0．2％磷酸二氫鉀，隔5天噴1次，連噴3次。

　　灌水應根據(jù)植株長勢、氣候條件而定。植株較小時，氣溫低，每2天～3天滴1次清水。植株生長旺盛，氣溫高，特別是果實膨大期需水量較大，必須每天澆水。后期必須控水，采前忌澆水，否則會影響品質(zhì)。

　　整枝方法當瓜苗10節(jié)左右時，可用細繩固定主蔓，引蔓向上生長。授粉應選擇在主蔓16節(jié)～25節(jié)雌花上進行。雙蔓整枝，即植株高30厘米時，除主蔓外，還留1側(cè)蔓，其余去掉，僅主蔓結(jié)1個瓜，另外1條側(cè)蔓作為營養(yǎng)枝。在結(jié)瓜節(jié)位以上，留4片～5片葉摘心。